Возможность заметного переохлаждения способствует образованию стекла.
Интервал гистерезиса зависит не только от природы вещества, но и происходящих в нем структурных изменений (разрыв прочных химических связей, сопровождающихся заметным гистерезисом), но и от условий проведения эксперимента (скорость нагрева и охлаждение образца).
Часто гистерезис образцов наблюдается при охлаждении с высокой скоростью. При быстром охлаждении некоторые тепловые эффекты могут вообще не проявляться на кривых ДТА. В этих особых экспериментальных условиях, исследуемые в образцах процессы как бы становятся необратимыми.
Процесс стеклования.При нагревании кристаллического вещества (оксиды кремния SiO2) в точке плавления, его пик эндотермический. При охлаждении процесс кристаллизации не идет, а получается переохлажденная жидкость. С понижением температуры, вязкость переохлажденной жидкости возрастает, до образования стекла. Следовательно, кристаллизация кристаллизация как бы подавляется. Другими словами, в этом случае гистерезис настолько велик, что кристаллизация не происходит. В случае SiO2 расплав очень вязкий даже выше Tпл = 17000С и кристаллизация идет весьма медленно и при низких скоростях охлаждения.
