Методами літографії (фотолітографія, променева літографія) в шарі окису можна сформуавти ділянки для введення домішок.
При фотолітографії на окислений епітаксіальний шар наноситься фоторезист, що експонується через фототрафарет, після чого обробляється малюнок, ділянки вільні від малюнка витравлюються плавиковою кислотою.
При формуванні малюнка методом променевої літографії створюється програма по заздалегідь розробленому топологічному кресленню, по цій програмі променем автоматично видаляються ділянки окису кремнію, що розраховані для внесення домішок.
