Физические процессы в любом полупроводниковом приборе могут быть описаны системой нелинейных дифференциальных уравнений в частных производных. Эта система в общем виде содержит два уравнения для плотностей токов электронов и дырок, два уравнения непрерывности электронов и дырок и четыре уравнения Максвелла и описывает поведение носителей заряда в пространстве и во времени.
Ток носителей заряда определяется их диффузией и дрейфом в электрическом поле. Уравнение для плотности токов электронов и дырок содержит две составляющие— дрейфовую (первый член) и диффузионную (второй член):
где q=1,602∙10-19 Кл — элементарный заряд; n, p — концентрация электронов и дырок соответственно; μn, μp — подвижность электронов и дырок; Dn, Dp — коэффициенты диффузии электронов и дырок; Е — вектор напряженности электрического поля в декартовой системе координат:
Величина Е связана с потенциалом j соотношением
Ех, Еу, Ег— составляющие вектора напряженности электрического поля по осям х, у, z, а е1 е2, е3— единичные орты, совпадающие по направлению с осями х, у, z. Градиент концентрации электронов
Аналогичным образом выражается градиент концентрации дырок.
Для невырожденного полупроводника (в кремнии при концентрации носителей заряда меньше концентрации вырождения ~2-1019 см-3 для 7=300 К) коэффициент диффузии связан с подвижностью носителей заряда соотношением Эйнштейна
где k=1,38-10-23 Дж/К=8,62-10-8 эВ/К — постоянная Больцмана; Т — абсолютная температура, К; jT=kT/q-температурный потенциал, составляет 0,0258 В при 300 К.
Уравнение непрерывности для электронов имеет вид:
Это уравнение описывает сохранение общего количества электронов и связывает изменение концентрации электронов п в некотором заданном элементарном объеме во времени (правая часть уравнения) с изменением n в этом объеме за счет протекания тока электронов (первый член левой части), а также за счет генерации Gn или рекомбинации Rn электронов. Величина Rn называется темпом (скоростью) рекомбинации электронов и определяется уменьшением концентрации электронов в элементарном объеме в единицу времени вследствие рекомбинации. Темп генерации определяется увеличением концентрации электронов за счет теплового, ударного, оптического и других механизмов генерации. В условиях термодинамического равновесия рекомбинация электронов полностью уравновешивает их тепловую генерацию, поэтому Rn = Gn. Если нет ударной и оптической генерации, то генерация электронов возможна только за счет тепловой энергии. В этом случае можно говорить о результирующем эффекте генерации — рекомбинации, введя обозначение RG = Rn—Gn.
Аналогично записывается уравнение непрерывности для дырок:
Напомним, что дивергенция векторной величины определяется выражением
Из многих известных механизмов рекомбинации в кремнии и германии доминирующим является механизм рекомбинации носителей заряда через ловушки. Ловушками (центрами рекомбинации) могут служить атомы ряда элементов таблицы Д. И. Менделеева (золото, платина, медь, серебро и др.), дефекты кристаллической решетки. Ловушки, как правило, создают ряд уровней в запрещенной зоне полупроводника, однако наиболее эффективен с точки зрения рекомбинации один из уровней, который наиболее близок к середине запрещенной зоны. В модели рекомбинации, учитывающей процессы рекомбинации носителей заряда через ловушки, имеющие один-единственный энергетический уровень Et в запрещенной зоне (модель Шокли-Рида-Холла), темп генерации — рекомбинации носителей заряда определяется выражением
Где Nt — концентрация ловушек; ал, σ — сечения захвата электрона или дырки на ловушку соответственно; Vt — тепловая скорость носителя заряда, приблизительно равная 107см/с при T=300К; концентрации n1 и p1 определяются выражениями
если в них вместо Ef подставить Et.
В общем случае систему уравнений необходимо дополнить четырьмя уравнениями Максвелла. Если не рассматривать влияние внешних магнитных полей и предположить, что собственное магнитное поле, обусловленное протеканием тока через прибор, мало (для кремния и германия в рабочем диапазоне температур это допущение справедливо), то достаточно рассматривать только уравнение Пуассона divD=ρ, которое в случае изотропного полупроводника имеет вид
Таким образом, основная система уравнений состоит из пяти перечисленных уравнений, которые являются основой анализа процессов в полупроводниковых приборах. Эту систему уравнений часто называют фундаментальной системой уравнений (ФСУ) физики полупроводниковых приборов.
Диоды на основе электронно-дырочного перехода нашли наибольшее применение. Электронно-дырочный переход можно создать внутри полупроводника, если ввести в одну его область донорную примесь, а в другую акцепторную (рис. 3). В рабочем диапазоне температур атомы примесей полностью ионизованы, концентрации электронов в n-области, а дырок в р-области, т. е. концентрации основных носителей заряда вдали от границы раздела р- и n-области, можно считать равными концентрации соответствующей примеси: nn0≈ND, pp0≈NA. Равновесные концентрации неосновных носителей будут равны: np0=ni2/pp0 pn0= ni2/ nn0. Будем считать, что полупроводник достаточно сильно легирован, т.е. nn0 >> ni, pp0 >> ni и поэтому pn0<< ni , nn0<< ni. Для определенности положим, что Na>>Nd> т,е. будем рассматривать резконесимметричный p-n переход.
Рис.3. Диаграммы несимметричного p-n перехода
Рассмотрим физические процессы, происходящие в областях р-n перехода в условиях термодинамического равновесия, т. е. при постоянной температуре и отсутствии внешнего напряжения смещения. Так как концентрация дырок в р-области много больше концентрации дырок в n-области, то дырки из р-области будут диффундировать в n-область, при этом в р-области у границы раздела останутся неподвижные отрицательные ионы акцепторов и возникнет отрицательный объемный заряд— qNa. Дырки, переходя в n-область, рекомбинируют с электронами, в результате чего концентрация электронов справа от границы уменьшается. Аналогично электроны из n-области (где их много) диффундируют в р-область (где их мало), при этом в n-области остаются нескомпенсированные положительные ионы доноров и возникает положительный объемный заряд +qNd. Электроны, переходящие в p-облаcть, рекомбинируют с дырками, что также приводит к образованию нескомпенсированного отрицательного заряда ионов акцепторов вблизи границы раздела. В результате описанного выше процесса вблизи границы раздела образуется ОПЗ, в которой концентрация электронов и дырок понижена. ОПЗ имеет высокое электрическое сопротивление, и ее называют также запирающим слоем. Распределение объемного заряда в ОПЗ р(х) показано на рис. 3, г. Электронно-дырочные переходы с распределением легирующей примеси, изображенным на рис. 3, б, называют резкими переходами.
В отсутствии сужения запрещенной зоны можно показать, что контактная разность потенциалов будет равна