В цепь между базой и коллектором транзистора включено в проводящем
(прямом) направлении напряжение источника Е (1…2 В). Вследствие этого
потенциальный барьер эмиттерного перехода снизится на ЕЭ: UЭ-Б = φ – ЕЭ. Действие барьера ослабляется, и «дырки», обладающие большими скоростями, могут переходить через p – n-переход в базовую область, создавая ток эмиттерного перехода iЭ. Этот процесс называется инжекцией дырок (рисунок 36).
Эмиттер
База
Коллектор
p-n
p-n
К
+
х
UК-Б = φ+EК
UЭ-Б=φ–EЭ
φ
–
–
б
а
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
–
–
iК
Б
К
Э
EК
iБ
EЭ
iЭ
Дырки
Диффузия дырок
Рекомбинация
Инжекция
Диффузия
Экстракция
Рисунок 36 – Физические процессы в p – n – р-транзисторе:
а – структура транзистора; б – распределение потенциалов
Одновременно происходит переход электронов из базы в эмиттер. Однако при выборе значительно меньшей концентрации носителей тока в базе этот встречный поток электронов оказывается намного меньше потока дырок и обратный ток эмиттера iобр мал.
Инжектированные в базу дырки в результате диффузии направляются к
коллектору за счет перепада плотности дырок по длине базы. Диффузия
происходит в течение конечного времени при отсутствии электрического поля.
За время диффузии часть дырок рекомбинирует с электронами, приходящими в базу через базовый вывод от источника ЕЭ, и образует базовый ток iБ. В цепь между базой и коллектором включено напряжение источника ЕК, смещающее коллекторный переход в запирающем (непроводящем) направлении и увеличивающее потенциальный барьер коллекторного перехода. Напряжение источника ЕК выбирают приблизительно 5…20 В.
Дырки, попавшие в базу из эмиттера и равномерно распределившиеся по объему базы, подхватываются полем коллекторного перехода, которое является для них ускоряющим, и втягиваются в коллектор. Этот процесс называется экстракцией дырок (см. рисунок 36). Эти дырки образуют коллекторный ток iК. В области контакта коллектора с внешней цепью дырки рекомбинируют с электронами, приходящими из внешней цепи от источника питания ЕК. Цепь тока оказывается замкнутой.
Из рассмотрения процессов видно, что
iЭ = iБ + iК.
Для увеличения коллекторного тока iК базовый ток iБ стремятся сделать как можно меньше. В современных транзисторах удается получить iБ ≈ (0,05…0,1)iЭ путем снижения ширины области базы. Тогда iК ≈ (0,95…0,9)iЭ.
Отношение коллекторного тока к эмиттерному называется коэффициентом передачи тока транзистора: α = iК / iЭ = 0,95...0,99.
Таким образом, токи в транзисторе связаны следующими соотношениями:
IК = α iЭ; IБ = (1 − α)iЭ.
Если в цепь между базой и коллектором ввести переменное напряжение
источника ЕГ небольшой величины (ЕГ < ЕЭ), то количество инжектированных дырок, т. е. ток iЭ, будет меняться вследствие изменения высоты потенциального барьера. Если в цепь между коллектором и источником ЕК ввести еще сопротивление Rн, то изменение эмиттерного тока iЭ приведет к изменению коллекторного тока iК приблизительно в тех же пределах.
Так как сопротивление коллекторной цепи велико (коллекторный переход смещен в обратном направлении), то протекание по этой цепи изменяющегося и значительного тока iК позволяет получить в усилителе на транзисторе усиление по напряжению и мощности.
Работа транзистора n – p – n-типа происходит аналогично работе транзистора p – n – p-типа. В этом случае носителями тока являются электроны и полярность внешних источников напряжений меняется на противоположную.