Лазерная обработка Гауссовым распределенным источником
(импульсный режим, двумерная задача, цилиндрическая симметрия).
(cм приложение 1, программа 5, файл MathCad impulse2p.mcd).
Модель Гауссова распределенного источника полезна при изучении степени влияния лазерных пучков сканирующих по поверхности однородного материала с большим перекрытием /см. например [5], там же описаны и основные формулы, используемые в данной лабораторной работе/. См. Приложение 1, программа 5:
- распределение температур по Z,R в любой момент времени t <= ti описывается формулой П5.1;
- распределение скоростей нагрева по Z,R в любой момент времени t <= ti описывается формулой П5.2;
-П5.2a – тоже при фиксированном времени t = ti;
- распределение температур по Z,R в любой момент времени t >= ti описывается формулой П5.3;
- распределение скоростей охлаждения по Z,R в любой момент времени t >= ti описывается формулой П5.4;
Варианты заданий
1. Промоделировать процесс лазерной обработки Гауссовым распределенным источником: рассчитать температуры на стадии нагрева и охлаждения, скорости нагрева и охлаждения.
2. Для заданного материала определить технологический режим обработки (параметры обработки известных лазерных систем), позволяющие получить максимальную глубину закалку без оплавления поверхности.
3. Изучить характер распределения температур по координатам R, Z в зависимости от степени сосредоточенности ЛИ (параметр к = 1, 0,5; 0,3 и т.д.)
