Лазерная обработка Гауссовым точечным источником
(импульсный режим, двумерная задача, цилиндрическая симметрия).
(см. приложение 1, программа 2, файл MathCad impulse21.mcd)
Распределение интенсивности ЛИ по Гауссу I(r) = I(z=0)*exp(-k*r2) позволяет, используя цилиндрическую симметрию источника излучения, получить точное решение тепловой задачи. Материал при этом предполагается однородным, источник КПЭ – точечным и интенсивность лазерного источника не зависит от времени, а тепловая модель – полу бесконечное тело. Аналитическое решение такой задачи описано в [8], там же приведены основные формулы, которые используются в данной лабораторной работе. (см Приложение 1, программа 2):
- изменение температуры при нагреве в центре зоны обработки на поверхности материала в любой момент времени t <= ti П2.1;
-изменение температуры при охлаждении в центре зоны обработки на поверхности материала в любой момент времени t >= ti П2.2;
-распределение температур по координатам R, Z в любой момент времени t <= ti П2.3;
Варианты заданий
1. Изучить характер распределения температур по координатам R, Z в зависимости от степени сосредоточенности ЛИ (параметр к = 1, 0,5; 0,3 и т.д.)
2. Промоделировать процесс лазерной обработки импульсным Гауссовым излучением: рассчитать распределение температур на стадии нагрева.
3. Численно подобрать несколько режимов ЛВ на ваш материал, при которых обеспечивается достижения Тпл в центре пятна обработки.