где n – концентрация собственных электронов, p – концентрация собственных дырок, e – заряд электрона, mn, mp - подвижность электронов и дырок соответственно.
Концентрация неосновных носителей заряда в полупроводнике n-типа:
,
где n – концентрация основных носителей заряда (электронов), ni – концентрация собственных носителей заряда.
Концентрация неосновных носителей заряда в полупроводнике p-типа:
,
где p – концентрация основных носителей заряда (дырок), ni – концентрация собственных носителей заряда.
Собственная концентрация носителей заряда:
,
где DW – ширина запрещенной зоны, эВ, Т – температура, К, Nc, Nv – эффективная плотность состояний для электронов зоны проводимости и для дырок валентной зоны (число энергетических уровней в единице объема полупроводника соответственно в зоне проводимости и в валентной зоне):
, ,
где mс и mv – эффективные массы плотности состояний для электронов зоны проводимости и для дырок валентной зоны.
Коэффициент температурного изменения ширины запрещенной зоны: ,
где Т1 и Т2 – начальная и конечная температура, К, DW1 и DW2 – ширина запрещенной зоны при начальной и конечной температуре, эВ.
Коэффициент диффузии электронов:
,
где mn – подвижность электронов, Т – температура.
Коэффициент диффузии дырок:
,
где mp – подвижность электронов, Т – температура, К.
Диффузионная длина носителей заряда:
,
где τ – время жизни носителей заряда, мкс.
2.2. Пример решения типовой задачи
Образец кремния n-типа при температуре Т1=300К имеет удельное сопротивление ρ=0,05 Ом∙м. При этом подвижность электронов µn=0,14 м2/(В∙с), собственная концентрация носителей заряда ni=7∙10-5 м-3, ширина запрещенной зоны ΔW=1,12 эВ. При нагревании образца до температуры Т2=500К концентрация электронов в нем не изменяется. Определить, как изменится концентрация неосновных носителей заряда в этом температурном диапазоне, если коэффициент температурного изменения ширины запрещенной зоны b=2,84∙10-4 эВ/К. Учесть, что эффективные массы плотности состояний для дырок валентной зоны и для электронов зоны проводимости соответственно равны: mv=0,56m0, mc=1,05m0.
Решение:
Обозначим изменение концентрации неосновных носителей заряда (дырок) при изменении температуры от температуры Т1=300К до температуры Т2=500 К как А, тогда:
,
где р1 – концентрация неосновных носителей заряда (дырок) при температуре Т1, р2 – концентрация неосновных носителей заряда (дырок) при температуре Т2.
Концентрация неосновных носителей заряда в полупроводнике n-типа (дырок):
,
где ni – собственная концентрация носителей заряда, n – концентрация электронов в полупроводнике n-типа (причем, по условию задачи она не изменяется при изменении температуры от 300 до 500 К).
Получаем: для температуры Т1 , для температуры Т2 .
Так как рассматривается полупроводник n-типа, то дырочной составляющей электропроводности можно пренебречь.
Электропроводность:
,
где µn – подвижность электронов.
Концентрация электронов:
.
Для температуры Т1 собственная концентрация носителей заряда ni1 приведена в исходных данных, а для температуры Т2 концентрацию ni2 надо определить.
Собственная концентрация носителей заряда при температуре Т2:
,
где DW2 – ширина запрещенной зоны, эВ, Nc, Nv – эффективная плотность состояний для электронов зоны проводимости и для дырок валентной зоны (число энергетических уровней в единице объема полупроводника соответственно в зоне проводимости и в валентной зоне):
, ,
где mс и mv – эффективные массы плотности состояний для электронов зоны проводимости и для дырок валентной зоны.
По условию задачи: mv=0,56m0, mc=1,05m0.
Ширину запрещенной зоны при температуре Т2=500 К определяем с помощью коэффициента температурного изменения ширины запрещенной зоны: .
Подставив в расчетные выражения числовые данные, получаем:
;
;
;
;
- по условию задачи;
,
, ,
Тогда: .
Ответ: при увеличении температуры от 300 К до 500 К концентрация неосновных носителей заряда кремния n-типа (дырок) возрастет в 5,2∙108 раз.
2.3.Задачи
1. Определить собственную концентрацию носителей заряда в полупроводнике при температуре Т, если ширина его запрещенной зоны DW, а эффективные массы плотности состояний mv=0,56m0, mc=1,05m0.
2. При напряженности электрического поля Е плотность тока через полупроводник составляет j. Определить концентрацию электронов проводимости в полупроводнике, если их подвижность mn. Дырочной составляющей тока пренебречь.
3. Определить отношение полного тока через полупроводник к току, обусловленному дырочной составляющей: а) в собственном полупроводнике; б) в полупроводнике р-типа с удельным сопротивлением ρ. Принять собственную концентрацию носителей заряда ni, подвижность электронов mn, подвижность дырок подвижность mp.
4. Через пластину полупроводника с удельным сопротивление ρ проходит электрический ток плотностью j. Найти средние скорости дрейфа электронов и дырок, если их подвижности mn и mp, соответственно.
5. Определить время жизни и подвижность электронов в полупроводнике при температуре Т, если диффузионная длина электронов составляет Ln, а коэффициент диффузии Dn.
6. Определить удельное сопротивление полупроводника n-типа, если концентрация электронов проводимости в нем равна n, а их подвижность mn.
7. Определить собственную удельную проводимость германия при комнатной температуре (концентрация носителей заряда nn=np ; подвижность носителей заряда mn и mp).
8. Вычислить удельное сопротивление германия p-типа с концентрацией дырок np (подвижность носителей заряда mn и mp).
9. При температуре 300 К собственное удельное сопротивление антимонида галлия равно ρ. Определить собственную концентрацию носителей заряда, если их подвижность mn и mp.
Исходные данные для расчета по теме полупроводниковые материалы Таблица 2
№
Параметр
Вариант
Температура Т, К
Ширина запрещенной зоны DW, эВ
1,12
1,1
1,1
1,2
1,3
1,4
1,5
1,6
1,7
1,8
1,9
1,2
1,3
1,4
1,5
1,6
1,7
1,8
1,9
Напряженность электрического поля Е, В/м
Плотность тока j, 104А/м2
Подвижность электронов mn, м2/(В∙с)
0,37
0,11
0,13
0,14
0,12
0,13
0,4
0,14
0,15
0,16
0,17
0,18
0,19
0,2
0,27
0,31
0,28
0,19
0,24
0,17
Удельное сопротивление полупроводника р-типа ρ, Ом∙м